RF射频电源
PECVD系统，它由管式炉，石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。主要使用于:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。该PECVD系统具有： 薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
RF射频电源主要技术参数：
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功率输出范围 |
0-500W |
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最大反射功率 |
200W |
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工作频率 |
射频：13.56MHZ±0.005% |
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功率稳定度 |
+/-0.1% |
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谐波分量 |
≤-50dbc |
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射频区域宽度 |
0-600mm 可调 |
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匹配方式 |
自动 |
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冷却方式 |
分冷 |
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噪声 |
<50dB |
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射频接口 |
50Ω N-type |
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输入电源 |
208-240V 50/60HZ |
