冷坩埚晶体提拉炉

                                                                        VLF-CZ冷坩埚晶体生长炉

        冷坩埚晶体生长炉炉是将分瓣水冷铜坩埚置于强大的交变磁场中，利用感应涡流加热水冷铜坩埚中的金属使其融化，依靠电磁力使熔融金属与水冷铜坩埚不产生密切接触。这样就避免了坩埚对需要熔炼材料的污染，金属熔化后，籽晶杆边旋转边提拉，从而能够生长出高纯度的金属单晶或合金单晶。

一、本设备特点

1、采用卧式炉体，侧部开门结构，进出料方便，炉体结构紧凑，占地空间较小

2、可以30段程序控温，控温精确，可以控制升温速率和恒温时间。

3、可以方便的更换不同的线圈以满足熔炼不同KG数的物料

4、安装有观察孔，可以清晰的炉内坩埚物料的情况

5、可安装红外测温仪，可以精确的测量坩埚内液体的温度（选购）

6、配有扩散泵或分子泵机组，真空度可达5X10^-3Pa

7、电极和坩埚可以在炉体外手动转动，液体可以在腔体内完成倾倒和浇铸，这样就避免了浇铸的危险和可以在真空下浇铸。

8、具有二次加料系统。

9、转动电极和炉体之间采用威尔逊密封，密封性能好，转动较轻松。

10、安装有水冷机，水冷机具有欠压和断水报警，使用安全可靠（选购）。

11、采用IGBT电源，具有过温、断水保护并具有报警、输出电流显示等功能。

12、VLF系列真空悬浮熔炼炉是一款专用的现代化高纯度熔炼设备，该设备真空度高、结构紧凑、外形美观，是一款适合于大专院校、科院院所和工矿企业等做材料高纯熔炼、铸造用的理想产品。本产品主要在真空或保护气氛条件下对金属材料（如钛、镍、钴等合金）及稀土超磁、伸缩合金、溅射靶材、多晶硅、高纯稀土金属的冶炼和提纯。

二、设备优点点

     1、能够熔炼高熔点的金属材料；

          2、由于没有来自坩埚的杂质，可以生长超高纯度的金属单晶；
          4、缩短熔化时间，达到快速熔化；
         5、对水冷铜坩埚的损伤较小，水冷紫铜坩埚具有良好的使用寿命；
         6、水冷铜坩埚和熔融的金属液之间的软接触，减少了坩埚的冷却负载，减少了热量损失，降低能耗；
         7、金属熔液在非接触状态下容易从坩埚内倒出；
         

三、水冷系统（选购）：感应炉、水冷铜坩埚上需要水冷却。

四、结构说明

    本产品由炉盖、炉体、回转机构、浇注装置、充气系统、真空系统、IGBT 电源控制系统等组成

1、炉体：为全不锈钢结构。炉壳采用双层水冷结构，保证炉壳温度不超过60℃。炉盖打开方式为手动，并加有锁紧装置，炉盖上设有观察孔，方便观察炉内情况。

2、炉架：由型钢钢板组焊成柜架结构，炉体安置在炉架上。

3、回转机构：与炉体用法兰连接，感应线圈由铜管绕成螺旋形从炉体引出，采用威尔逊密封，密封可靠，坩埚可放在感应线圈上通过旋转机构做任意角度旋转以完成溶化后的熔液倾倒浇铸。

4、真空系统：采用二级泵，即一台扩散泵（分子泵）与一台直联泵，真空机组上设有高真空挡板阀以及KF 快速连接真空放气阀和充气阀。

5、电源控制系统：IGBT 悬浮专用电源、全数字电路等，电气系统设有过流、过压返馈及保护电路，电控屏箱按西门子标准制作，控温精度高，操作方便。

6、水冷系统：由各种阀、管道等相关装置组成，并设有断水时声光报警、自动切断加热电源功能。

7、水温检测：安装有温度计检测水冷铜坩埚的出水温度，温度过高时会自动保护，以免水冷铜坩埚被烧坏。

8、精密提拉机构：可边旋转边提拉

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