6英寸近距离旋转蒸发镀膜炉
RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距离旋转蒸发镀膜炉，腔体采用高真空不锈钢，此款设备可用于蒸发或CSS镀膜实验，氧化物、半导体或者太阳能基片退火实验，其载样台尺寸为Φ150，顶部载样台可以旋转提高镀膜均匀度。此款高温炉的加热原件是两组红外灯管（分别位于顶部和底部）。最大升温速率是20℃/S
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CSS
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型号 |
RTP-Ⅱ-CSS-150 |
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视频 |
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最高温度 |
900℃ |
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电源电压 |
AC三相380V | ||
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功率 |
16KW |
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腔体结构和真空室
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双加热器，两个温度控制器，可单独控温 |
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真空腔体采用304不锈钢结构，正前方带有直径100mm的观察窗 |
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真空法兰由304不锈钢制成 |
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法兰由硅胶O型圈密封，可通过机械泵实现1Pa的真空压力 |
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加热器和样品架
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两组短波红外灯作为加热原件，用于快速加热 |
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两个加热器之间的距离可在10~60mm之间调节 |
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上下加热器之间配备挡板 |
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上加热器可旋转，转速为0~30rpm |
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加热器由不锈钢制成，带有水冷夹套，可减少热辐射并实现快速冷却 |
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6英寸圆形晶圆支架内置顶部加热器，可装载基板 |
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采用导热率较高的氮化铝板陶瓷片（直径6英寸×0.5mm厚）作为载样台，以达到较好的加热均匀性 |
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两个英国进口欧陆3204数字温度控制器，控温精度±1℃，可独立控制顶部和底部加热器 |
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测温方式 |
两根K型热电偶，一根测上加热台，一根测下加热台 |
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| 控温方式 |
采用欧陆3204程序控温仪表 1、高精度的温度仪表，LCD液晶显示屏，5位数值显示，通过快速设置配置简单，C/F单位切换 2、1组程序8步，共4组程序 3、具有过温保护 断偶保护，过温或断偶时电炉加热电路自动切断,，（当电炉温度超过900度或热电偶烧断时，主电路上的交流继电器会自动断开，主电路断开，面板上ON灯熄灭，OFF灯亮，有限的保护电炉）。 4、支持各种通讯接口 Modbus, Ethernet, Profibus，Devicenet，可以与任意PLC或上位系统集成 5、具有断电保护功能，即断电后再给电启动炉子时、程序不是从起始温度开始升、而是从断电时炉温开始升。 6、仪表具有温度自整定的功能 |
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| 工作温度 | 每个加热器最高温度≤900℃，两个加热器之间的最大温差≤300℃ | ||
| 真空泵 | 机械泵型号:BSV30 | ||
| 抽速：8L/s | |||
| 功率：1.1KW | |||
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冷水机 CW6200 |
电源 |
3PH-380V/50HZ |
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总功率 |
8KW |
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最大扬程 |
30M |
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冷冻水量 |
2.8m3/h |
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水箱容量 |
110L |
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制冷量 |
13244Kcal/h |
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出入水口 |
Rp1/2’’ |
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机器尺寸 |
1300×650×1145(长X宽X高) |
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真空蒸镀设备主要由真空室和抽真空系统组成，真空室内有蒸发源(即蒸发加热器)、基片及基片架、基片加热器、排气系统等。
将镀膜材料置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸气分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后，膜材蒸气的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的碰撞与阻碍，可直接到达被镀的基片表面上，由于基片温度较低，膜材蒸气粒子凝结其上而成膜。
为了提高蒸发分子与基片的附着力，可以对基片进行适当的加热或离子清洗使其活化。真空蒸发镀膜从物料蒸发、运输到沉积成膜，经历的物理过程如下:
(1)利用各种方式将其他形式的能量转换成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量(0.1~0.3eV)的气态粒子(原子、分子或原子团):
(2)气态粒子离开膜材表面，以相当的运动速度基本上无碰撞的直线输运到基片表面;
(3)到达基片表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜;
(4)组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合
